台式微波等离子去胶机WB240

>> 产品特点 

  WB240微波等离子去胶机采用专利高密度2.45GHZ微波等离子技术，用于半导体生产中晶圆的清洁、去胶和等离子体预处理，微波等离子体清洗、去胶机具有高度活性、高效，且不会对电子装置产生离子损害。 

微波等离子去胶机主要用途： 

  ·等离子体表面改性

  ·有机物表面等离子去胶                        

  ·邦定强度增强

  ·等离子体刻蚀应用

  ·等离子体灰化应用

  ·增强或减弱浸润性

  ·其它等离子体系统应用

>> 技术参数

 ◆ 外形尺寸

  1000(W)×800(D)×1750(H)mm

 ◆ 仓体结构

  石英，约20升   

 ◆ 等离子发生器

  频率2.45GHZ,功率0-1000W连续调节,可连续长时间工作

 ◆ 控制系统

  触摸电脑+PLC全自动控制,采用欧姆龙、西门子等电器元件，性能稳定可靠,并具有手动、自动两种模式

 ◆ 真空系统(真空压力PID闭环自动控制)

  英国爱德华斡旋式干泵 

  美国MKS真空压力控制节流阀及薄膜式传感器   

  台湾气动真空角阀、充气阀、不锈钢真空波纹管 

 ◆ 充气系统

  美国MKS高精度电子质量流量计(2路气体配制)

  美国世伟洛克气体管路及接口组件，德国双级减压阀

  日本SMC及CKD高真空气阀组件

>> 相关应用   

  - 晶圆光刻胶清洗 

  - 去除残胶

  - 晶圆和衬底的清洁